對奧林巴斯光譜儀射線強度有影響的因素是什么呢?奧林巴斯光譜儀的定量分析是以熒光x光線的強度為根據的，影響光譜儀射線強度的因素會影響分析的精確度，以下是主要兩大影響因素：
 

　　一、基體效應:
 

　　基體效應包含吸收效應及加強效應。
 

　　吸收效應包含基材對入射x光線的吸收及對熒光x光線的吸收。由于用射線激發(fā)試品時，不只是作用于試品表層并且能穿透相應的厚度進入試品里面，并且試品里面分析元素形成的熒光x光線，也必須穿過相應厚度的試品才可以射出。在穿透過程中，這二種x光線都會因基材元素的吸收而使射線強度減弱，射線減弱會影響對分析元素的激發(fā)效率。
 

　　假如入射x光線使基材元素激發(fā)所形成的熒光x光線的波長略短于分析元素的吸收邊，它會使分析元素形成二次熒光x光線，進而使分析元素的熒光x光線強度加強，這就是基材的加強效應。
 

　　假如吸收效應占主導作用，則分析結果稍低，假如加強效應占主導作用，則分析結果較高。
 

　　二、不均勻效應:
 

　　不均勻效應就是指試品顆粒大小不均勻及試品表層光潔度對熒光x光線強度的影響。對粉末試品，大顆粒吸收效應強，小顆粒吸收效應弱，因而，要求顆粒粒度盡可能小一些，以減少對x光線的吸收。測短波x光線時，要求粒度在250目以上，測量波長超過0.2nm的長波x射線時，則粒度要求在400目以上。
 

　　固體塊狀試樣一定要磨平拋光，粉末試樣要壓緊并使表層平滑。粗糙表層會使熒光x光線的強度明顯下降。測量短波x光線時，光潔度在1005m左右，測量長波x光線時，光潔度為20-50Mm。